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電鍍槽液的槽液自動(dòng)管理系統(tǒng)

2092 人參與  2012年12月16日 06:33  分類 : 電鍍技術(shù) 電鍍工藝 電鍍?cè)O(shè)備  評(píng)論

為簡化操作,提高生產(chǎn)效率,穩(wěn)定產(chǎn)品質(zhì)量,延長溶液調(diào)整處理周期,電鍍槽液的自動(dòng)控制是很重要的。
鍍槽的自動(dòng)控制包括電流密度、電流、電壓、電流波形轉(zhuǎn)換、溫度、pH值、添加劑濃度、主鹽離子濃度等控制功能。將電鍍生產(chǎn)線的主要鍍槽的工藝參數(shù)控制在最佳狀態(tài),是獲得穩(wěn)定的高質(zhì)量鍍層的有效措施。電鍍生產(chǎn)過程工藝參數(shù)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制的程度(占主要鍍槽總數(shù)的百分比)是衡量企業(yè)生產(chǎn)水平的一個(gè)重要標(biāo)志,也是體現(xiàn)生產(chǎn)文明程度的一項(xiàng)指標(biāo)。
隨著新型自動(dòng)控制電鍍電源裝置的不斷問世,特別是針對(duì)某些表面處理工藝設(shè)計(jì)生產(chǎn)的專用電源裝置的出現(xiàn),對(duì)鍍槽電流、電壓、電流密度和電流波形等電源參數(shù)的控制及工作程序的編制已經(jīng)很方便了,不少電鍍電源設(shè)備生產(chǎn)廠已能按用戶特殊要求生產(chǎn)不同規(guī)格和性能的專用電鍍電源裝置。由于電源裝置采用了微機(jī)控制,有的廠家已擴(kuò)散到工作溫度等其他電氣控制功能,并備有計(jì)算機(jī)接口,為鍍槽的自動(dòng)控制創(chuàng)造了良好條件。
鍍槽的自動(dòng)控制分為槽液綜合控制(或稱槽液管理)和各種單一的電鍍參數(shù)測(cè)示控制儀器兩類。自動(dòng)線控制系統(tǒng)還包括全線程序控制。
槽液綜合控制裝置(系統(tǒng))主要使用計(jì)算機(jī)技術(shù)。它不僅能對(duì)復(fù)雜的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,而且通過數(shù)/模轉(zhuǎn)換器來驅(qū)動(dòng)相應(yīng)的外圍設(shè)備,進(jìn)行控制和補(bǔ)加物料。
日本名古屋市中央制作所生產(chǎn)的CCCS系列電鍍自動(dòng)管理系統(tǒng)分為三種型式。CCCS—P型為吊車運(yùn)載器的隨機(jī)控制裝置;CCCS—C型為設(shè)備及槽液管理裝置,主要進(jìn)行整流器的電流和電壓控制,根據(jù)訂貨要求,可進(jìn)行整流器通電時(shí)間控制,整流器輸出電流顯示、記錄與報(bào)警,輸出電壓顯示、記錄與報(bào)警,每槽積算電流值顯示、記錄與報(bào)警,光亮劑自動(dòng)添加控制,光亮劑添加量積算、顯示與記錄;CCCS—D型為槽液管理、生產(chǎn)管理與設(shè)備管理裝置,主要進(jìn)行整流器輸出電流顯示、記錄與報(bào)警,液溫顯示、記錄與報(bào)警,鍍槽裝載次數(shù)顯示、記錄與報(bào)警,鍍槽總計(jì)處理時(shí)間顯示、記錄與報(bào)警,生產(chǎn)日期及時(shí)間,處理電流,處理時(shí)間,加工項(xiàng)目的日?qǐng)?bào)、月報(bào),生產(chǎn)線上掛具數(shù)據(jù)顯示,故障內(nèi)容顯示等,根據(jù)訂貨要求,還可進(jìn)行整流器輸出電壓顯示、記錄與報(bào)警,每槽積算電流值顯示、記錄與報(bào)警,光亮劑自動(dòng)添加控制,光亮劑添加量積算、顯示與記錄,槽液pH值顯示、記錄與報(bào)警,槽液電導(dǎo)值顯示、記錄與報(bào)警,掛具編號(hào)與批量編號(hào),總積算電流值,pH值、電導(dǎo)值、溫度等生產(chǎn)記錄,生產(chǎn)產(chǎn)品數(shù)量、重量、表面積統(tǒng)計(jì)及作業(yè)管理報(bào)表,還可具有日歷時(shí)間功能和設(shè)備修理項(xiàng)目顯示等。
中央制作所還生產(chǎn)供應(yīng)化學(xué)鍍鎳溶液自動(dòng)管理系統(tǒng),對(duì)化學(xué)鍍鎳溶液進(jìn)行自動(dòng)分析和補(bǔ)充,進(jìn)行工藝參數(shù)自動(dòng)控制。
日本東京都東洋技研工業(yè)株式會(huì)社與電氣化學(xué)計(jì)器株式會(huì)社聯(lián)合開發(fā)的電鍍槽液自動(dòng)管理裝置,其程序分析儀器由電氣化學(xué)計(jì)器(株)生產(chǎn),它包括硫酸鹽鍍銅液、錫鉛合金電鍍?nèi)芤?、焦磷酸鹽鍍銅溶液和化學(xué)鍍銅溶液四種分析控制裝置。

電鍍生產(chǎn)線的總控制系統(tǒng)是將電鍍槽液自動(dòng)管理裝置、泵及溫度控制裝置、整流器控制裝置、料倉控制裝置、吊運(yùn)機(jī)控制裝置等置于主計(jì)算機(jī)和顯示器的管理下。主計(jì)算機(jī)可與上位計(jì)算機(jī)聯(lián)接,對(duì)生產(chǎn)進(jìn)行全面計(jì)算機(jī)管理。
硫酸鹽鍍銅槽液自動(dòng)管理裝置由操作控制單元與分析單元組成,分別裝在兩個(gè)獨(dú)立的箱體內(nèi),分析單元的儀器安裝在鍍槽附近,操作控制單元可以在距分析單元200m范圍內(nèi)分開安裝,為生產(chǎn)集中管理提供了可能性。該分析裝置-機(jī)多能,可進(jìn)行多槽管理,操作控制單元可利用顯示器、功能選擇鍵與操作鍵進(jìn)行人機(jī)對(duì)話。計(jì)算機(jī)對(duì)分析單元各部件的動(dòng)作隨時(shí)進(jìn)行監(jiān)測(cè),發(fā)現(xiàn)分析操作異常時(shí),及時(shí)發(fā)出報(bào)警信號(hào)并顯示故障所在,滴定泵采用標(biāo)準(zhǔn)化部件,排除故障簡便。備有微機(jī)接口,可與上位計(jì)算機(jī)連接。
分析單元取樣用電磁閥與鍍槽循環(huán)過濾機(jī)的輸出管道相連,采用試劑泵與滴定泵等進(jìn)行分析輸液,經(jīng)放大器將數(shù)據(jù)輸入操作控制單元的微處理機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,操作單元的只讀存儲(chǔ)器、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器和顯示器及鍵盤等裝置可按指令對(duì)補(bǔ)給泵加以控制,根據(jù)需要,通過打印機(jī)提出記錄材料。
硫酸鹽鍍銅槽液自動(dòng)管理裝置的控制范圍為Cu l5g/L~25g/L,H2S04160g/L~200g/L,Cl-40mg/L~60mg/L;測(cè)定精度為Cu±2.5%,H2S04 ±2.5%,Cl-±3.0%;設(shè)備精度即采樣精度0.1566%,稀釋液計(jì)量器精度0.462%,滴定液注入泵精度0.548%,補(bǔ)給泵精度±l%。

裝置各單元組成及技術(shù)規(guī)格:
分析單元
輸液部分電磁閥 ACl00V,聚四氟乙烯隔膜閥
空氣控制電磁閥 ACl00V,多支管式
電位差計(jì) HB-8型,-1400mV~+1400mV
電極 玻璃電極、銀電極
比色計(jì) 流動(dòng)室式、光路長30mm,波長600mm
采樣計(jì)量器 材質(zhì)為聚四氟乙烯

稀釋水計(jì)量器 材質(zhì)為聚氯乙烯
滴定槽 材質(zhì)為硬質(zhì)玻璃
滴定泵 步進(jìn)電機(jī)、柱塞式
比色吸引泵 感應(yīng)電機(jī)、柱塞式
試劑添加泵 感應(yīng)電機(jī)、柱塞式
操作控制單元
微機(jī)系統(tǒng)
CPU 8085A
P—ROM 2716,2KB×8(max)
RAM 6508。(CMOS)256bit×8
CRT 9英寸,單色,32×16
鍵盤 功能選擇鍵及操作鍵
DI/O 輸入:DC0~1V、-l400mV~+1400mV.0~14pH
輸出:RS232C、DCAmA×2~20mA×2
打印機(jī)
采樣及加料設(shè)備
采樣泵、給料泵、加料槽、標(biāo)準(zhǔn)溶液槽、滴定溶液箱、支架及其他。

溶液采樣由微管輸液泵定時(shí)自動(dòng)通過采樣頭從過濾機(jī)出口端吸取清潔的電鍍?nèi)芤海謩e送到分析單元的氧化還原滴定、pH測(cè)定、吸光度測(cè)定等儀器,將傳感器的數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)處理后,發(fā)出各項(xiàng)指令。顯示及記錄單元能顯示裝置操作程序內(nèi)容,分析數(shù)據(jù),分析數(shù)據(jù)定時(shí)打印,藥液注入量打印以及藥液注入總量累計(jì)值打印等。藥液注入部件由脈沖信號(hào)啟動(dòng)輸液泵定量注入藥液,計(jì)算機(jī)的輸出是比例控制的。
其微機(jī)系統(tǒng)的構(gòu)成如下:

①CPU Z-80
②存儲(chǔ)器 64kbit(max)
C—MOS RAM 2kbit、RAM 4kbit
ROM 58kbitf max)
③I/O 輸人8路輸出24路
④顯示器 發(fā)光二極管型
⑤打印機(jī) 32行
⑥鍵盤 功能選擇鍵及操作鍵
微機(jī)系統(tǒng)具有下列功能:

傳感器、電機(jī)、閥的順序控制功能;
②運(yùn)算功能
傳感器輸入的電位濃度變換運(yùn)算,電機(jī)等的流量調(diào)整運(yùn)算,各分析值的積算與藥劑輸送信號(hào)的變換,比例控制輸出運(yùn)算,藥劑量等的積算數(shù)據(jù)處理,控制演示功能。
設(shè)備的外形尺寸(長×寬×高):550mm×550mm×1380mm,質(zhì)量60kg,電源為ACl00V,60/50Hz。美國EC1和WALCHEM等分析儀器公司近幾年也進(jìn)人中國市場(chǎng),深圳儀高南儀器有限公司作為其在中國的代理商,為用戶提供EC1的電鍍?nèi)芤悍治鱿到y(tǒng)和WALCHEM的WCU系列化學(xué)鍍銅/微蝕銅溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀、WNl310系列鍍鎳溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀和QLC-5000-L全自動(dòng)電鍍液分析控制系統(tǒng)。

WALCHEM公司生產(chǎn)的WCU系列化學(xué)鍍銅/微蝕銅溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀是利用光電原理進(jìn)行在線分析來測(cè)量槽液的濃度變化,以實(shí)現(xiàn)藥劑補(bǔ)給而達(dá)到成分控制的。能顯示溶液濃度9/L或oz/gal值,還可以通過LCD顯示屏來查看對(duì)比顯示濃度與預(yù)先設(shè)定值的差距,當(dāng)?shù)竭_(dá)最大“金屬消耗”時(shí)能自動(dòng)報(bào)警并輸出電信號(hào),以控制補(bǔ)加藥劑。這是該公司的一種經(jīng)濟(jì)型產(chǎn)品,內(nèi)置微處理器以菜單形式控制,通過菜單來切換鍍銅或蝕銅模式而不用更換控制器??赏瑫r(shí)控制多達(dá)4個(gè)繼電器,每個(gè)繼電器的輸出端都可統(tǒng)計(jì)計(jì)量泵的總流量或運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間。
WCU系列化學(xué)鍍銅/微蝕銅溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀可選用鍍槽浸入式傳感器或槽外流通式傳感器,利用光纖光電技術(shù)能提供穩(wěn)定的重現(xiàn)性好的精確濃度測(cè)量,不會(huì)受槽液老化、顏色變化或沉淀物突變等因素影響。儀器具有自診斷能力,能自我檢測(cè)、校準(zhǔn)提示,并輸出4mA~20mA控制和報(bào)警信號(hào)。WCU系列化學(xué)鍍銅/微蝕銅溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀及其傳感器的外形如圖l2—2—57所示。
WNl310系列鍍鎳溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀也是利用光電原理進(jìn)行在線分析來測(cè)量槽液的濃度變化,以實(shí)現(xiàn)藥劑補(bǔ)給而達(dá)到成分控制的。能顯示溶液濃度g/L或oz/gal值,可以對(duì)比顯示濃度與預(yù)先設(shè)定值的差距,當(dāng)?shù)竭_(dá)最大“金屬消耗”時(shí)能自動(dòng)報(bào)警并輸出電信號(hào),以控制補(bǔ)加藥劑。適時(shí)自動(dòng)準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)槽液成分,能延長槽液的使用壽命,減少資源浪費(fèi)。只需一次設(shè)置好最佳控制點(diǎn),就能保持準(zhǔn)確的結(jié)果,省去多次重復(fù)調(diào)校的繁忙操作。圖l2—2—58為WNl310系列鍍鎳溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀的外形。

鍍鎳溶液濃度自動(dòng)測(cè)控儀內(nèi)置微處理器以菜單形式控制,只有測(cè)量鎳或附帶有pH控制功能兩種形式,從而可省去另外添置pH控制儀。自動(dòng)測(cè)控儀帶兩個(gè)獨(dú)立控制輸出,一個(gè)用于鎳的控制,另一個(gè)用于pH值的控制。每個(gè)獨(dú)立控制輸出端都可統(tǒng)計(jì)計(jì)量泵的總運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間、總添加量或“金屬消耗”。操作者還可通過LCD顯示屏查看鎳的濃度與設(shè)定值的差距。
采用槽外流通式傳感器能減少占用鍍槽空間,光纖光電技術(shù)能進(jìn)行非常穩(wěn)定的重現(xiàn)性好的精確濃度測(cè)量,不會(huì)受槽液老化、顏色變化或沉淀物突變等因素影響。儀器具有自診斷能

力,能自我檢測(cè)、校準(zhǔn)提示,并輸出4mA~20mA控制和報(bào)警信號(hào)。
QLC-5000-L型自動(dòng)在線電鍍?nèi)芤悍治鱿到y(tǒng)是將整個(gè)對(duì)鍍槽的化學(xué)測(cè)控裝置全部集中到一臺(tái)控制屏內(nèi),可同時(shí)進(jìn)行多達(dá)4個(gè)鍍槽的采樣與分析測(cè)控。使用簡便,易于維護(hù)。這種快速反應(yīng)裝備對(duì)生產(chǎn)過程中溶液成分瞬息萬變的化學(xué)鍍槽的在線自動(dòng)測(cè)控非常重要。它對(duì)有機(jī)成分采用CVS解析技術(shù)、對(duì)無機(jī)成分采用滴定分析,能提交銅、鎳等金屬,酸、氯化物、催化劑、抑制劑以及整平劑等成分的有效濃度,對(duì)化學(xué)鍍生產(chǎn)自動(dòng)線的在線自動(dòng)測(cè)控極為實(shí)用。

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