1962年R．D．Fisher報(bào)告了電鍍鈷的磁特性作為高密度磁記錄器鍍層，引起廣泛的重視，隨之研究化學(xué)鍍鈷作為強(qiáng)磁性薄膜。鈷的標(biāo)準(zhǔn)電極電勢為-0．28V，比鎳的-0．25V負(fù)，在用次磷酸鹽做還原劑的酸性溶液中C0的沉積速度很慢，甚至得不到鈷的鍍層。只有在堿性溶液中才能有合適的沉積速度?；瘜W(xué)鍍鈷的機(jī)理與化學(xué)鍍鎳相類似。

化學(xué)鍍鈷通常采用檸檬酸鹽、酒石酸鹽和銨鹽為配位體。配位體除能防止產(chǎn)生堿性鹽沉淀外，會對鍍液的沉積速度和鍍層性能產(chǎn)生影響。ph值調(diào)整劑采甩氨水，不采用氫氧化鈉，因?yàn)楹笳邥瑰円旱某练e速度變慢。
(二)化學(xué)鍍鈷溶液的配制
用純水溶解計(jì)算量的配位體，然后在攪拌下加入溶解好的鈷鹽，若出現(xiàn)混濁，繼續(xù)攪拌至全部溶解，然后加入溶解好的次磷酸鹽，加純水接近總體積，然后用氨水調(diào)節(jié)pH值至規(guī)范，加純水至總體積，過濾后即可使用。
(三)化學(xué)鍍鈷層的特性和用途
化學(xué)鍍鈷層是以P在01—C0中的過飽和固溶體為主，x射線衍射圖譜在2Θ≈53。，570及610處分別出現(xiàn)hcp結(jié)構(gòu)的Co(100)、(102)、(101)晶面衍射峰。鍍態(tài)硬度HV500～HV600(叫(P)為4％～6％時(shí))，經(jīng)5000C1h熱處理可析出大量的C02P相，硬度上升為HV900～HVl000。
鈷的居里溫度(失去磁性的溫度)是1150℃，而鐵的是769℃，鎳的是358℃。鈷是磁化一次能保持磁性的少數(shù)金屬之一?；瘜W(xué)鍍鈷層的矯頑力依磷含量不同而異，即隨次磷酸鹽增

加和pH值下降而增大。因化學(xué)鍍鈷可獲得各種十分不同的磁性能，所以廣泛用于記憶存儲器元件。
除用于磁記錄材料外，在Ni(OH)2及泡沫鎳上化學(xué)鍍鈷，可明顯改善Ni—MH電池的大電流放電性能。