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化學(xué)鍍金的特點(diǎn)

1550 人參與  2012年11月30日 01:19  分類 : 電鍍技術(shù) 電鍍工藝 電鍍?cè)O(shè)備  評(píng)論

隨著電子工業(yè)和空間技術(shù)的發(fā)展，特別是近年來(lái)IP和印制線路板工業(yè)的發(fā)展，化學(xué)鍍金工藝獲得了越來(lái)越廣泛的應(yīng)用。如半導(dǎo)體的管芯、管座、印制線路板的插足，集成電路框架的引線，繼電器的防腐導(dǎo)電面和觸點(diǎn)。化學(xué)鍍金層的化學(xué)穩(wěn)定性高，可防止金屬腐蝕和接觸點(diǎn)的表面氧化，以保持較好的導(dǎo)電性、耐磨性和焊接性。
金的薄膜能透過(guò)可見(jiàn)光，能反射紅外線和無(wú)線電波，因而能制成光線選擇過(guò)濾器及無(wú)線電波反射器。金的標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì)為1．68V，許多還原劑都能將它還原?；瘜W(xué)鍍金常用的還原劑有硼氫化物，DMAB，次磷酸鹽和肼。其中硼氫化物，DMAB和肼這些還原劑還原Au(CN)f是自催化過(guò)程，而次磷酸鹽還原Au(CN)f卻不是自催化過(guò)程。化學(xué)鍍金溶液可分為氰化物體系和非氰化物體系兩大類，前者更為常用。

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