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硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程和結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

1422 人參與  2012年12月22日 05:16  分類(lèi) : 電鍍技術(shù) 電鍍工藝 電鍍?cè)O(shè)備  評(píng)論

氧化膜的生成機(jī)理與普通硫酸陽(yáng)極化相同,但為獲得厚而硬的膜層需強(qiáng)制冷卻電解液,采用高電壓和大電流使膜的生成速度遠(yuǎn)大于溶解速度。由于氧化條件的改變,使膜層結(jié)構(gòu)亦發(fā)生變化,

增厚電阻增加,孔隙率減小,故電壓升高,這階段時(shí)間越長(zhǎng),生長(zhǎng)速度與溶解速度達(dá)到平衡的時(shí)間也越長(zhǎng),其厚度不斷增加;第4段電壓急劇上升,達(dá)到一定值時(shí)發(fā)生電火花擊穿。這是由于電壓高,膜孔內(nèi)析氧加速,且擴(kuò)散困難,積累的氧氣又導(dǎo)致膜電阻增加,電壓劇增,孔內(nèi)熱量引起氣體放電產(chǎn)生火花。電火花擊穿電壓,所以第4段氧化時(shí)間不宜太長(zhǎng),通常為90min~100min。
硬質(zhì)層也是雙層結(jié)構(gòu),其區(qū)別在于比普通膜的阻擋層厚度約大10倍,孔壁也如此,這是硬度高的基本原因。然而孔隙率比普通膜少7倍~8倍,只有2%~6%。硬質(zhì)膜基組雜亂無(wú)章,互相干擾,出現(xiàn)一種特殊的棱柱狀,導(dǎo)致膜內(nèi)應(yīng)力大,甚至引起開(kāi)裂。合金元素和電解分解產(chǎn)物在膜壁中的殘留,引起膜色澤深暗

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本文標(biāo)簽:陽(yáng)極氧化  

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