硬質(zhì)陽極氧化常采用恒電流法。氧化開始電流密度為0．5A／dm2，在25min內(nèi)分5次～8次逐步升高電流密度至2．5A／dm2～3A／dm2，然后保持電流恒定，并每5min用升高電壓的方法調(diào)整電流密度，直至氧化終結(jié)。氧化過程中應(yīng)經(jīng)常注意電壓與電流表，如有電流突然增加，電壓突然下降現(xiàn)象，說明有些零件膜層已局部腐蝕溶解，這時應(yīng)立即斷電，檢查和取出已破損的零件，其他零件再繼續(xù)氧化，可一次給足電流。
4．成分和工藝參數(shù)的影響
(1)溶液濃度。用硫酸硬質(zhì)氧化時一般采用10％～30％的濃度范圍。濃度偏低時膜層硬度高，尤以純鋁更加明顯。但含銅高的燒毀零件，故不適合低濃度氧化，必須采用3101g／L～350g／L的硫酸，用交直流疊加或脈沖電流氧化。
(2)有機(jī)酸。在硫酸溶液中加人適量的有機(jī)酸如丙二酸、乳酸、蘋果酸、磺基水楊酸等，可擴(kuò)大溫度的上限值到常溫，這樣不但使操作簡化，節(jié)約能源，降低成本，而且能使膜層質(zhì)量有所提高。(3)DP-lll添加劑。高硅鑄鋁合金采用常規(guī)氧化，電流分布不均，導(dǎo)致氧化膜不連續(xù)，局部易燒焦。加入DP-Ⅲ添加劑的作用是改善了鋁合金表面的電流分布，有利于提高氧化速度和硬度，在20℃以下氧化可達(dá)到-5℃時氧化膜的硬度。
(4)溫度。溫度對膜層的硬度和耐磨性影響很大。一般來說低溫氧化硬度高、耐磨性好，但溫度過低膜脆性大，零件尖棱部位質(zhì)量變差。適宜的溫度要視硫酸濃度、電流密度和合金成分而定，一般控制在-5℃～10℃范圍內(nèi)，對純鋁應(yīng)控制在6℃～ll℃(0℃左右硬度和耐磨性反而降低)。

(5)電流密度。提高電流密度則膜層生長速度加快，氧化時間縮短，膜硬度提高、耐磨性好。但當(dāng)電流密度超過某一值(8A／dm2)時，因發(fā)熱量大膜層硬度反而降低。若電流密度太低，則成膜慢，化學(xué)溶解時間長，因而膜硬度降低。為了獲得優(yōu)質(zhì)膜層就要根據(jù)不同材質(zhì)的零件選擇適當(dāng)?shù)碾娏髅芏?，一般選擇2A／dm2～5A／dm2。
(6)合金成分。鋁合金成分和雜質(zhì)對硬質(zhì)氧化有較大影響。它影響氧化膜的均勻性和完整性鋁-銅、鋁-硅、鋁-錳合金硬質(zhì)氧化比較因難。當(dāng)合金中銅含量大于5％或硅含量大于7．5％時，不宜用直流氧化，而要用交直流疊加方法，電流波形的改變還可放寬銅、硅含量范圍。不同材質(zhì)硬質(zhì)氧化膜的硬度值，

不同材質(zhì)硬質(zhì)氧化膜的斷面硬度