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化學(xué)復(fù)合鍍的工藝特點(diǎn)

1517 人參與  2012年12月02日 01:28  分類 : 電鍍技術(shù) 電鍍工藝 電鍍?cè)O(shè)備  評(píng)論

化學(xué)復(fù)合鍍是在金屬的自催化過(guò)程中,惰性粒子與金屬共同沉積在基體表面,形成復(fù)合材料鍍層的表面處理工藝技術(shù)。與電沉積復(fù)合鍍相比,化學(xué)復(fù)合鍍問世較晚,1966年第一次制備了Ni—P/A1,0,化學(xué)復(fù)合鍍層。最先獲得實(shí)際應(yīng)用的化學(xué)復(fù)合鍍是Ni—P/SiC,主要用于提高發(fā)動(dòng)機(jī)鋁汽缸內(nèi)壁的耐磨性。自20世紀(jì)70年代以來(lái),盡管化學(xué)復(fù)合鍍技術(shù)在歐洲、美國(guó)和日本獲得發(fā)展和應(yīng)用,但至今仍有許多問題沒有解決,其中鍍液的穩(wěn)定性和使用壽命是化學(xué)復(fù)合鍍的最大問題。目前常用的化學(xué)復(fù)合鍍可分為兩類,第一類為軟質(zhì)點(diǎn)的自潤(rùn)滑鍍層,另一類為硬質(zhì)點(diǎn)的耐磨鍍層。
一、軟微粒的自潤(rùn)滑化學(xué)復(fù)合鍍層
在Ni—P化學(xué)鍍鎳溶液中添加PTFE,氟化石墨,CaF2和MoS等,可得到具有低摩擦系數(shù)、抗粘著磨損的自潤(rùn)滑復(fù)合鍍層。
自潤(rùn)滑化學(xué)復(fù)合鍍層中研究報(bào)道最多和工業(yè)化應(yīng)用最成功的是化學(xué)鍍Ni—P/PTFE。PTFE是聚四氟乙烯(Polytetraflouroethylene)的英文縮寫,又稱Taflon。P'ITE俗稱塑料王,幾乎不溶于任何酸、堿和有機(jī)溶劑,它的軟化點(diǎn)為325℃,安全使用溫度<290。C,其摩擦系數(shù)是所有聚合物中最低的。
化學(xué)鍍Ni—P/PTFE主要應(yīng)用于
(1)干摩擦、需要減磨的環(huán)境,如計(jì)算機(jī)內(nèi)部,兒童玩具。
(2)改善耐磨性。
(3)改善塑料、橡膠的脫模性。
(4)可防止水、油和臘等結(jié)垢。
Ni—P/PTFE層施鍍工藝中最困難的是PTFE粒子的前處理和分散,由于PTFE具有自身團(tuán)聚行為,因此通常采用較多的是商品的PTFE乳液。由于FIFE粒子的不僅粒度小,而且密度小,因此均勻分散在鍍液中很困難,必須采用陽(yáng)離子或非離子表面活性劑。在Ni—P/PTFE復(fù)合鍍層中當(dāng)PTFE粒子含量為25%~30%(體積)時(shí),鍍層的減磨性最好,此時(shí)鍍層的硬度HV300。
二、硬微粒的耐磨化學(xué)復(fù)合鍍層
(一)化學(xué)鍍Ni—P/SiC
化學(xué)鍍Ni—P/SiC在任何類型的溶液中均可施鍍,但要選擇合適的粒子大小,一般lμm~10μm大小的粒子容易嵌合。與電鍍相比,化學(xué)鍍鎳對(duì)SiC粒子具有更強(qiáng)的嵌合能力。
化學(xué)鍍鎳層中復(fù)合進(jìn)SiC后,硬度明顯提高,且隨著粒子的含量的增加而上升。
當(dāng)鍍層中SiC含量低時(shí),耐磨性隨離子的含量的增加而上升,但當(dāng)粒子的含量超過(guò)一定值時(shí),隨粒子的含量的增加耐磨性反而下降。這是由于隨著粒子含量的增加,化學(xué)鍍層對(duì)粒子的嵌合能力下降,在磨損過(guò)程中,造成粒子的大量脫落。
(二)化學(xué)鍍Ni—P/Al203
化學(xué)鍍Ni—P/Al:0,同化學(xué)鍍Ni—P/SiC工藝相差不多,只要用普通的化學(xué)鍍鎳溶液,就能制備Ni—P/Al:0,復(fù)合鍍層。
Ni—P/納米Al:0,化學(xué)復(fù)合鍍工藝見表7—4—25。由于引入的是納米粒子,因此獲得了更加優(yōu)異的性能。
硬微?;瘜W(xué)復(fù)合鍍的難點(diǎn)在于溶液的穩(wěn)定性,一旦溶液中的微粒被活化而沉積上Ni—P鍍層,微粒表面的化學(xué)鍍反應(yīng)非常劇烈,化學(xué)鍍?nèi)芤貉杆俜纸?,受命終止。

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