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高耐蝕裝飾性鍍鉻

1208 人參與  2013年01月31日 01:48  分類(lèi) : 電鍍技術(shù) 電鍍工藝 電鍍?cè)O(shè)備  評(píng)論

高耐蝕裝飾性鍍鉻是采用特殊工藝改變鍍鉻層的結(jié)構(gòu),從而提高鍍層的耐蝕性,該鍍層適用于室外條件要求苛刻的場(chǎng)合。
在防護(hù)裝飾性鍍鉻體系中,多層鎳的應(yīng)用顯著提高了鍍層的耐蝕性,研究發(fā)現(xiàn),鎳、鉻層的耐蝕性不僅與鎳層的性質(zhì)及厚度有關(guān),同時(shí)在很大程度上還取決于鉻層的結(jié)構(gòu)特征。從標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液中得到的普通防護(hù)裝飾性鍍鉻層雖只有0.25~0.5μm,但鍍層的內(nèi)應(yīng)力很大,.使鍍層出現(xiàn)不均勻的粗裂紋。在腐蝕介質(zhì)中鉻鍍層是陰極,裂紋處的底層是陽(yáng)極,因此,遭受腐蝕的總是裂紋處的底層或基體金屬。由于裂紋處暴露出的底層金屬面積與鍍鉻層面積相比很小,因而腐蝕電流密度很大,腐蝕速度很快,而且腐蝕一直向縱深發(fā)展。由于裂

紋不可避免,如果改變微裂紋的結(jié)構(gòu),使腐蝕分散,那么就可減緩腐蝕。在此構(gòu)思下,20世紀(jì)60年代中期開(kāi)發(fā)出了高耐蝕性的微裂紋鉻和微孔鉻新工藝。這兩種鉻統(tǒng)稱(chēng)為“微不連續(xù)鉻”由于形成的鉻層具有眾多的微孔和微裂紋,暴露出來(lái)的鍍鎳面積增大但又很分散,使鎳層表}面上的腐蝕電流密度大大降低,腐蝕速度也大為減緩,從而提高了組合鍍層的耐蝕性,并且使鎳層的厚度減小5μm左右。
①微裂紋鉻在光亮鍍鎳層上施鍍一層0.5~3μm高應(yīng)力鎳,再鍍0.25μm普通裝飾鉻,由于高應(yīng)力鎳層的內(nèi)應(yīng)力和鉻層內(nèi)應(yīng)力相疊加,就能在每平方厘米上獲得250~1500條{分布均勻的網(wǎng)狀微裂紋鉻。
研究發(fā)現(xiàn),普通鍍鉻電解液中加入少量的seO42-,可得到內(nèi)應(yīng)力很大的鍍鉻層。在添加seO42-的鍍液中得到的鉻鍍層帶有藍(lán)色。seO42-含量越高,鍍層的藍(lán)色越重。
采用雙層鍍鉻法也可獲得微裂紋鉻鍍層。工藝為先鍍覆一層覆蓋力好的鉻鍍層,然后在含氟化物的鍍鉻溶液中鍍覆一層微裂紋鉻層。雙層法電鍍微裂紋鉻鍍層的工藝見(jiàn)表4—28。,雙層法的缺點(diǎn)是需要增加設(shè)備,電鍍時(shí)間長(zhǎng),電能消耗多。故目前已用單層微裂紋鉻代替,{但單層微裂紋鉻也存在氟化物分析困難及微裂紋分布不均等缺點(diǎn)。
②微孔鉻 目前使用最多的電鍍微孔鉻的方法是在光亮鍍鎳上鍍覆厚度不超過(guò)0.5μm的鎳基復(fù)合鍍層(鎳封閉),再鍍光亮鉻層,便得到微孔鉻層。

鎳基復(fù)合鍍層中均勻彌散的不導(dǎo)電微粒粒徑在0.5μm以下,在鍍液中的懸浮量為50~lO0g/L,微粒在復(fù)合鍍層中含量為2%~3%。常用的微粒有硫酸鹽、硅酸鹽、氧化物、氮化物和碳化物等。由于微粒不導(dǎo)電,在鍍鉻過(guò)程中微粒上沒(méi)有電流通過(guò),其上面也就沒(méi)有金 屬鉻沉積,結(jié)果就形成了無(wú)數(shù)微小的孔隙,密度可達(dá)每平方厘米一萬(wàn)個(gè)以上。
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