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滾鍍鉻

1748 人參與  2013年01月31日 01:52  分類 : 電鍍技術(shù) 電鍍工藝 電鍍設(shè)備  評(píng)論

需要鍍鉻的細(xì)小零件,如采用通常的掛鍍,不僅效率低,而且鍍件上常留下夾具的痕跡,不能保證鍍層的質(zhì)量。滾鍍鉻多用于體積小、數(shù)量多、又難以懸掛零件的裝飾性多層電鍍,如銅/光亮鎳/鉻或光亮低錫青銅/鉻。此法可提高生產(chǎn)效率、降低成本。但它只適用于形狀簡單、具有一定自重的鍍件;不適用于扁平片狀、自重小以及外觀要求較高的零件電鍍。
滾鍍鉻時(shí)應(yīng)注意的事項(xiàng)如下:
①滾鍍鉻溶液用蒸餾水或去離子水配制,注意清潔,嚴(yán)防雜質(zhì)帶入,特別注意不要帶人Cl一;
②硫酸根應(yīng)控制適宜,不易過高,以免零件表面發(fā)黃或鍍不上鉻,過量的硫酸可用碳酸鋇除去;’
③氟硅酸對(duì)鍍層有活化作用,并能擴(kuò)大光亮范圍,不可缺少,也不宜過量;
④帶電入槽,開始使用沖擊電流,約l~2min即可;

⑤零件裝入滾桶前,必須將桶內(nèi)的鉻酸液清洗凈,以防零件被鉻酸腐蝕發(fā)花;
⑥滾桶使用一段時(shí)間后,用鹽酸處理,以除去滾桶網(wǎng)上的鉻層;
⑦零件小,溫度可稍低些,為避免鍍液溫度升高最好用冷卻裝置。

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