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低濃度鉻酐鍍鉻工藝

1390 人參與  2013年02月02日 02:37  分類(lèi) : 電鍍技術(shù) 電鍍工藝 電鍍?cè)O(shè)備  評(píng)論

低濃度鉻酐鍍鉻工藝是指鍍鉻液中鉻酐含量在30～60g／L的鍍鉻工藝，鉻酐使用量只有普通標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻工藝的l／5～1／8，既減輕了鉻酐對(duì)環(huán)境的污染，又節(jié)約了大量的原材料。

低濃度鉻酐鍍鉻工藝組成及操作條件

低濃度鉻酐鍍鉻工藝組成及操作條件

采用低鉻酐鍍鉻工藝可以獲得裝飾性鉻鍍層和硬鉻鍍層，其光澤性、硬度、結(jié)合力以及裂紋等方面，均能滿(mǎn)足質(zhì)量要求。但有時(shí)鍍層表面會(huì)出現(xiàn)黃膜或彩色膜，可在5％的硫酸溶液中除去，然后在堿性溶液中清洗。
低鉻酐鍍鉻液的分散能力比常規(guī)鍍鉻電解液好，但深鍍能力比較差，這給形狀復(fù)雜的零件帶來(lái)了一定困難。同時(shí)，電導(dǎo)率下降，槽電壓升高，因而能耗高，鍍液升溫快。低鉻酐鍍鉻的陰極電流效率達(dá)到l8％～20％。
由于上述原因，使得低鉻酐鍍鉻工藝受到一定的限制，目前的研究方向集中在尋求新的催化劑，以改善鍍液性能，降低槽電壓。

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本文標(biāo)簽：電鍍  鉻  

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