爆炸噴涂工藝爆炸噴涂可以獲得優(yōu)異的涂層，噴涂涂層以后零部件的性能有顯著的提高。有資料顯示，飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)和其他機(jī)械的關(guān)鍵零部件的修復(fù)和磨損問題，必須采用爆炸噴涂技術(shù)才能解決，為此美國(guó)Ｐｒａｘａｉｒ公司在全球建立了十幾個(gè)爆炸噴涂中心，在美國(guó)本土還有１５個(gè)爆炸噴涂維修中心，可見爆炸噴涂具有非常大的市場(chǎng)潛力。目前在亞洲，在新加坡建立了一個(gè)噴涂中心，日本建立了三個(gè)噴涂中心。日本的子公司將爆炸噴涂技術(shù)僅應(yīng)用到冶金行業(yè)，每年就產(chǎn)生幾千萬美元的經(jīng)濟(jì)效益。由于該工藝獲得的涂層非常優(yōu)越，因此從發(fā)明該設(shè)備至今，盡管聯(lián)合碳化物公司已經(jīng)解體，但爆炸噴涂工藝涂層制備技術(shù)仍然沒有公開，爆炸噴涂設(shè)備也從不向其他國(guó)家和公司出售。在２０世紀(jì)６０年代，前蘇聯(lián)也獨(dú)立地研究出了具有獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)的爆炸噴涂設(shè)備。１９８３年北

低濃度鉻酐鍍鉻工藝是指鍍鉻液中鉻酐含量在30～60g／L的鍍鉻工藝，鉻酐使用量只有普通標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻工藝的l／5～1／8，既減輕了鉻酐對(duì)環(huán)境的污染，又節(jié)約了大量的原材料。低濃度鉻酐鍍鉻工藝組成及操作條件采用低鉻酐鍍鉻工藝可以獲得裝飾性鉻鍍層和硬鉻鍍層，其光澤性、硬度、結(jié)合力以及裂紋等方面，均能滿足質(zhì)量要求。但有時(shí)鍍層表面會(huì)出現(xiàn)黃膜或彩色膜，可在5％的硫酸溶液中除去，然后在堿性溶液中清洗。低鉻酐鍍鉻液的分散能力比常規(guī)鍍鉻電解液好，但深鍍能力比較差，這給形狀復(fù)雜的零件帶來了一定困難。同時(shí)，電導(dǎo)率下降，槽電壓升高，因而能耗高，鍍液升溫快。低鉻酐鍍鉻的陰極電流效率達(dá)到l8％～20％。由于上述原因，使得低鉻酐鍍鉻工藝受到一定的限制，目前的研究方向集中在尋求新的催化劑，以改善鍍液性

乳白鉻一般厚度在30～60μm，抗蝕性能良好，但硬度較低，光澤性差。鍍?nèi)榘足t的工藝、鍍前準(zhǔn)備和鍍后處理，基本與鍍硬鉻相同。其主要的不同點(diǎn)是：要求溫度較高(65～75℃)，陰極電流密度較低(25～30A／dm2)。

黑鉻鍍層在色他化學(xué)和電化學(xué)方法獲得的黑色覆蓋層優(yōu)越，因此在航空、汽車、儀器儀表等需要消光的裝飾性鍍層以及太陽能吸收層方面獲得廣泛應(yīng)用。黑鉻鍍層的黑色是由鍍層的物理結(jié)構(gòu)所《致，它不是純金屬鉻，而是鉻和三氧化二鉻的水合物組成，呈樹枝狀結(jié)構(gòu)，金屬鉻以微粒形式彌散在鉻的氧化物中，形成吸光中心，使鍍層呈黑色。通常鍍層中鉻的氧化物含量越高，黑色越深。黑鉻鍍層的耐蝕性優(yōu)于普通鍍鉻層。黑鉻鍍層硬度雖只有130～350HV，但耐磨性與普通鍍鉻層相當(dāng)。黑鉻鍍層的熱穩(wěn)定性高，加熱到480℃，外觀無明顯變化，與底層的結(jié)合力良好。電鍍黑鉻溶液的組成及工藝鉻酐是鍍液中的主要成分，其含量在150～400g／L范圍內(nèi)均可獲得黑鉻鍍層。鉻酐濃度低，鍍液分散能力差；濃度高，雖然鍍液的分散能力有所改善，但鍍層

松孔鉻鍍層是具有一定疏密程度和深度網(wǎng)狀溝紋的硬鉻鍍層，具有很好的儲(chǔ)油能力。工作時(shí)，溝紋內(nèi)儲(chǔ)存的潤(rùn)滑油被擠出，溢流在工件表面上，由于毛細(xì)管作用，潤(rùn)滑油還可以沿著溝紋滲到整個(gè)工件表面，從而改善整個(gè)工件表面的潤(rùn)滑性能，降低摩擦系數(shù)，提高抗磨損性能。獲得松孔鉻的方法有機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)法。①機(jī)械法在欲鍍鉻零件表面用滾壓工具將基體表面壓成圓錐形或角錐形的小坑或相應(yīng)地車削成溝槽，然后鍍鉻、研磨。此法簡(jiǎn)單，易于控制，但對(duì)潤(rùn)滑油的吸附性能不太理想。②化學(xué)法利用鍍鉻層原有裂紋邊緣具有較高活性的特點(diǎn)，在稀鹽酸或熱的稀硫酸中浸蝕，裂紋邊緣處的鉻優(yōu)先溶解，從而使裂紋加深加寬，達(dá)到松孔的目的。此法鉻的損耗量大，溶解不均勻，質(zhì)量不易控制。③電化學(xué)法在鍍硬鉻后，經(jīng)除氫、研磨后，再在堿液、鉻

硬鉻又稱耐磨鉻，硬鉻鍍層不僅要有一定的光澤，而且要求底層的硬度高、耐磨性好并與基體結(jié)合牢固。鍍層厚度應(yīng)根據(jù)使用場(chǎng)合不同而異。在機(jī)械載荷較輕和一般性防護(hù)時(shí)，厚度為l0～20μm；在滑動(dòng)載荷且壓力不太大時(shí)，厚度為20～25μm；在機(jī)械應(yīng)力較大和抗強(qiáng)腐蝕作用時(shí)，厚度高達(dá)l50～300μm；修復(fù)零件尺寸厚度可達(dá)800～1000μm。耐磨鍍鉻一般采用鉻酐濃度較低(Cr03150～200g／L)的鍍液，有的工廠也采用標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液。工藝條件上宜采用較低溫度和較高的陰極電流密度，應(yīng)視零件的使用條件和對(duì)鉻層的要求而定。表4—29列出了獲得最大硬度鍍鉻層的適宜溫度和電流密度關(guān)系。生產(chǎn)上一般采用溫度為50～60℃(常用55℃)和25～75A／dm2(多數(shù)為50A／dm2)的陰極電流密度。工藝條件一經(jīng)確

需要鍍鉻的細(xì)小零件，如采用通常的掛鍍，不僅效率低，而且鍍件上常留下夾具的痕跡，不能保證鍍層的質(zhì)量。滾鍍鉻多用于體積小、數(shù)量多、又難以懸掛零件的裝飾性多層電鍍，如銅／光亮鎳／鉻或光亮低錫青銅／鉻。此法可提高生產(chǎn)效率、降低成本。但它只適用于形狀簡(jiǎn)單、具有一定自重的鍍件；不適用于扁平片狀、自重小以及外觀要求較高的零件電鍍。滾鍍鉻時(shí)應(yīng)注意的事項(xiàng)如下：①滾鍍鉻溶液用蒸餾水或去離子水配制，注意清潔，嚴(yán)防雜質(zhì)帶入，特別注意不要帶人Cl一；②硫酸根應(yīng)控制適宜，不易過高，以免零件表面發(fā)黃或鍍不上鉻，過量的硫酸可用碳酸鋇除去；’③氟硅酸對(duì)鍍層有活化作用，并能擴(kuò)大光亮范圍，不可缺少，也不宜過量；④帶電入槽，開始使用沖擊電流，約l～2min即可；⑤零件裝入滾桶前，必須將桶內(nèi)

①較大零件人槽前要通過熱水沖洗預(yù)熱，切勿在鍍液中預(yù)熱，否則會(huì)腐蝕高亮度的底層表面。②小零件需采用滾鍍鉻工藝，滾鍍鉻鍍液中應(yīng)加入氟硅酸，防止零件滾鍍時(shí)瞬間不接觸導(dǎo)電而致表面鈍化。③零件帶電入槽，對(duì)于復(fù)雜零件采用沖擊電流，或增大陰、陽極距離。④每一電鍍層都要拋光，提高光潔程度，減少孔隙，防蝕。⑤在鎳上鍍鉻時(shí)，如鎳鈍化，可用酸浸法活化，然后鍍鉻?；罨椒椋涸?0％～50％(體積分?jǐn)?shù))的鹽酸中浸30～60s；在20％(體積分?jǐn)?shù))的硫酸中浸蝕約5min；在5％(體積分?jǐn)?shù))的硫酸中陰極處理l5s左右，再鍍鉻，就可得到結(jié)合力良好的鍍鉻層。⑥電源宜采用全波整流。⑦采用高濃度鉻酐鍍液時(shí)，可安裝回收槽以節(jié)約鉻酐，降低成本，減少廢水處理量。

高耐蝕裝飾性鍍鉻是采用特殊工藝改變鍍鉻層的結(jié)構(gòu)，從而提高鍍層的耐蝕性，該鍍層適用于室外條件要求苛刻的場(chǎng)合。在防護(hù)裝飾性鍍鉻體系中，多層鎳的應(yīng)用顯著提高了鍍層的耐蝕性，研究發(fā)現(xiàn)，鎳、鉻層的耐蝕性不僅與鎳層的性質(zhì)及厚度有關(guān)，同時(shí)在很大程度上還取決于鉻層的結(jié)構(gòu)特征。從標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液中得到的普通防護(hù)裝飾性鍍鉻層雖只有0．25～0．5μm，但鍍層的內(nèi)應(yīng)力很大，．使鍍層出現(xiàn)不均勻的粗裂紋。在腐蝕介質(zhì)中鉻鍍層是陰極，裂紋處的底層是陽極，因此，遭受腐蝕的總是裂紋處的底層或基體金屬。由于裂紋處暴露出的底層金屬面積與鍍鉻層面積相比很小，因而腐蝕電流密度很大，腐蝕速度很快，而且腐蝕一直向縱深發(fā)展。由于裂紋不可避免，如果改變微裂紋的結(jié)構(gòu)，使腐蝕分散，那么就可減緩腐蝕。在此構(gòu)思下，20世紀(jì)60年代中期開發(fā)出了

一般防護(hù)裝飾性鍍鉻采用中、高濃度的普通鍍鉻液，適用于室內(nèi)環(huán)境使用的產(chǎn)品。鋼鐵、鋅合金和鋁合金鍍鉻必須采用多層體系，主要工藝流程如下。①鋼鐵基體銅／鎳／鉻體系工藝流程為：除油→水洗→浸蝕→水洗→閃鍍氰銅或閃鍍鎳→水洗→酸銅→水洗→亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗干燥。防護(hù)裝飾性鍍鉻的工藝規(guī)范多層鎳／鉻體系工藝流程為：除油→水洗→浸蝕→水洗→鍍半光亮鎳→水洗→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥?！吡驔_擊鎳(1μm)②鋅合金基體弱堿化學(xué)除油→水洗→浸稀氫氟酸→水洗→電解除油→水洗→閃鍍氰銅→水洗→光亮鍍銅→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥。③鋁及鋁合金基體弱堿除油→水洗→電解除油→水洗→次浸鋅→溶解浸鋅層→水洗一二次浸鋅→水洗→閃鍍氰銅(